[发明专利]忆阻器及其制备方法在审
申请号: | 202110825496.6 | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN113555502A | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 冯雪;孟艳芳;马寅佶 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请提供了一种忆阻器及其制备方法。该忆阻器包括第一银线、第二银线和绝缘层,所述绝缘层为氧化银,所述绝缘层被夹在所述第一银线和所述第二银线之间。忆阻器的制备方法包括提供所述第一银线和所述第二银线,对所述第一银线和/或所述第二银线进行表面处理,得到所述绝缘层,将所述第一银线和所述第二银线叠放,形成依次排列的银线、绝缘层、银线结构。 | ||
搜索关键词: | 忆阻器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110825496.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。