[发明专利]一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法有效
| 申请号： | 202110826699.7 | 申请日： | 2021-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN113529019B | 公开（公告）日： | 2023-08-15 |
| 发明（设计）人： | 徐仕立 | 申请（专利权）人： | 东莞市晶博光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/32;C23C14/35 |
| 代理公司： | 东莞科强知识产权代理事务所(普通合伙) 44450 | 代理人： | 李英华 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及AR技术领域，具体涉及一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法，它包括以下步骤：步骤1、对基片进行清洗干燥；步骤2、采用多弧离子镀，利用弧光放电时快速蒸发硅靶形成液滴，液滴在电场作用下沉积在基片表面，形成0.5‑3微米厚的硅纳米乳突；步骤3、磁控溅射镀硅光学膜，该光学膜的厚度300纳米以内，得到超硬仿生AR片，本发明利用多弧离子镀和磁控溅射镀相结合的方式，可以实现该种结构的仿生消反效果，同时可以实现大批量生产，并且成本低廉，还可以实现3D造型。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 离子镀 磁控溅射 制备 仿生 ar 方法 | ||
【主权项】：
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