[发明专利]一种基于虚拟现实的半导体光刻技术教育培训和考核方法在审
| 申请号： | 202110840705.4 | 申请日： | 2021-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN113487925A | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 吴方岩 | 申请（专利权）人： | 苏州芯才科技有限公司 |
| 主分类号： | G09B5/14 | 分类号： | G09B5/14;G09B7/04;G06Q10/06;G06Q10/10;G06Q50/04;G06Q50/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215213 江苏省苏州市工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种基于虚拟现实的半导体光刻技术教育培训和考核方法，通过VR技术构建半导体光刻加工过程的虚拟场景，克服空间、设备、环境以及原材料供应等各个方面的制约，扩大半导体工艺人员的培训规模和效率，不仅将光刻制备工艺完整的展现给学员，更通过沉浸式体验的方式，使学员能在短时间内掌握半导体光刻加工工艺；突破了时间空间以及实际条件的限制，同时又节约了成本，避免了不必要的麻烦与危险，还能在最大程度上贴近现实，使学员身临其境的感受到微纳加工光刻的魅力，具有很高的推广价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 虚拟现实 半导体 光刻 技术教育 培训 考核 方法 | ||
【主权项】：
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