[发明专利]极紫外光光刻方法和系统有效
| 申请号： | 202110843435.2 | 申请日： | 2021-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN113433805B | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 吴寒;闻锦程;马修泉;王力波;孙克雄;马新敏;陆培祥 | 申请（专利权）人： | 广东省智能机器人研究院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 刘羚 |
| 地址： | 523808 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种极紫外光光刻方法、系统、计算机设备和存储介质。方法通过获取极紫外光光刻请求；根据极紫外光光刻请求生成液滴靶材，并生成液滴靶材对应的高功率激光；将高功率激光作用于液滴靶材，以使液滴靶材等离子体化，获取激光等离子体；将高功率激光和预设电磁场同时作用于激光等离子体，以使激光等离子体维持几何形态和激发状态；采集激光等离子体发射的符合预设要求的光作为光刻光源，基于光刻光源完成极紫外光光刻请求对应的光刻任务。本申请将高功率激光和预设电磁场同时作用于激光等离子体，以使激光等离子体维持几何形态和激发状态，从而可以有效提高光刻光源的发光效率，从而保证紫外光光刻质量。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外光 光刻 方法 系统 | ||
【主权项】：
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