[发明专利]一种光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路在审

专利信息
申请号: 202110844767.2 申请日: 2021-07-26
公开(公告)号: CN113571536A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 黄睿;朱海彬;王伟杰;王佳斌;李扬冰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;王存霞
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请实施例提供了一种光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路。该光电子集成基板包括:衬底、电子元件和光学元件,电子元件位于衬底一侧,包括薄膜晶体管,薄膜晶体管包括半导体有源层;光学元件位于衬底一侧,包括光电二极管,光电二极管包括N型半导体层、本征半导体层和P型半导体层,N型半导体层、本征半导体层和P型半导体层均与半导体有源层同层设置。本申请实施例提供的显示基板的光电子集成基板光电二极管与薄膜晶体管的制作工艺兼容性较高,能够减少mask的数量,降低制造成本,并且可以在确保蓝光信号光吸收的基础上,减少对长波长环境光的吸收,增强光电二极管的光谱选择性,有利于降低误码率。
搜索关键词: 一种 光电子 集成 及其 制作方法 集成电路
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110844767.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top