[发明专利]增强型GaN HEMT双向阻断功率器件在审
申请号: | 202110848082.5 | 申请日: | 2021-07-27 |
公开(公告)号: | CN113594246A | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 王中旭 | 申请(专利权)人: | 陕西君普新航科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L21/335 |
代理公司: | 西安志帆知识产权代理事务所(普通合伙) 61258 | 代理人: | 侯峰;韩素兰 |
地址: | 710075 陕西省西安市西咸*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种增强型GaNHEMT双向阻断功率器件,该器件包括自下而上包括:衬底、成核层、缓冲层、沟道层、势垒层、源极、漏极、栅极,所述衬底、成核层、缓冲层、沟道层和势垒层由下到上依次设置,所述势垒层的上部分别设置源极和漏极,所述栅极和源极之间设置有刻蚀结构,所述漏极采用肖特基接触。本发明在栅源之间做了刻蚀,可以增加栅源电阻,让更高栅压降落在栅源之间,从而需要更高栅压来开启栅下方,即提高了阈值电压。 | ||
搜索关键词: | 增强 gan hemt 双向 阻断 功率 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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