[发明专利]提高CdZnTe探测器性能的CdZnTe/GaAs外延膜及制备方法有效

专利信息
申请号: 202110852294.0 申请日: 2021-07-27
公开(公告)号: CN113644149B 公开(公告)日: 2023-10-27
发明(设计)人: 万鑫;查钢强;李阳;曹昆;刘雅洁;魏鹤鸣;李颖锐 申请(专利权)人: 西北工业大学;西北工业大学青岛研究院
主分类号: H01L31/0336 分类号: H01L31/0336;H01L31/115;H01L31/18;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/24;C23C14/58
代理公司: 西安凯多思知识产权代理事务所(普通合伙) 61290 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种提高CdZnTe探测器性能的CdZnTe/GaAs外延膜及制备方法,基于P型GaAs衬底上生长CdZnTe厚膜并在Te2气氛中进行等温退火。将其制备成Au/CdZnTe/p‑GaAs/Au探测器,与退火之前相比,CdZnTe外延膜的电阻率明显提高,探测器对241Am@5.49MeVα粒子响应更加灵敏,能量分辨率提高,并且在退火之后出现了对241Am@59.5KeVγ射线的响应。本发明提供的改性方法包括衬底的预处理、CdZnTe外延膜的生长过程、CdZnTe外延膜的退火过程及辐射探测器的制备。
搜索关键词: 提高 cdznte 探测器 性能 gaas 外延 制备 方法
【主权项】:
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