[发明专利]一种基于自旋波衍射效应的探测界面DM作用强度的方法有效

专利信息
申请号: 202110854339.8 申请日: 2021-07-28
公开(公告)号: CN113589205B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 谢丽娜;沈茂康;聂彦;张悦;王韬;王鲜 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01R33/12 分类号: G01R33/12
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 夏倩
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于自旋波衍射效应的探测界面DM作用强度的方法,属于自旋电子学领域。本发明基于在一定条件下,最强衍射束偏转角的正弦值与DM作用常数近似满足简单的线性关系,通过测量最强衍射束偏转角的正弦值来测量DM作用常数,不需要分辨自旋波波长变化,测量方法不受波长分辨率的限制,因而可以适用于更宽频率范围(20GHz到100GHz,以坡莫合金波导系统为例)的自旋波下的DM作用强度的测量,突破了传统BLS等方法对波长分辨率的限制,这对于未来研究基于界面DM作用的自旋波特别是交换自旋波有着很大的作用。
搜索关键词: 一种 基于 自旋 衍射 效应 探测 界面 dm 作用 强度 方法
【主权项】:
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