[发明专利]纳米立方银焊膏、互连结构及焊接方法有效

专利信息
申请号: 202110860085.0 申请日: 2021-07-28
公开(公告)号: CN113579563B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 周国云;邱娟;何为;王守绪;杨猛;张彬彬;吴琼;毕建民;谭建容 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: B23K35/30 分类号: B23K35/30;B23K1/00;B23K3/06;B23K1/008;H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种纳米立方银焊膏、互连结构及其焊接方法,纳米立方银焊膏由尺寸均一的纳米立方银颗粒与有机溶剂混合而成,具有连接层孔隙率低、剪切强度高等优势。所述纳米立方银颗粒为立方体形状、粒径为20nm~200nm,纳米立方银焊膏可用于制备覆铜陶瓷基板和IGBT模块功率芯片的互连结构;本发明利用纳米立方银颗粒的自组装性能,形成超晶格结构,实现纳米立方银颗粒的紧密排列,经焊接后形成的连接层的连接接头界面层结合良好,连接层的孔隙率约为5%,剪切强度达到30Mpa以上,具有较高的剪切强度,能够很好地应用于电子器件的封装互连;其制备工艺简单,便于工业化生产。
搜索关键词: 纳米 立方 银焊膏 互连 结构 焊接 方法
【主权项】:
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