[发明专利]半导体工艺设备及其进气装置在审
| 申请号： | 202110864551.2 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN115681653A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 徐刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | F16L39/00 | 分类号： | F16L39/00;F16L41/08;F16L41/16;F16L53/35;G01K1/14;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其进气装置。该进气装置包括：进气块组件及连接组件，进气块组件及连接组件均采用抗腐蚀的材质制成；进气块组件内形成有混气腔、输气通道及混气通道，进气块组件与工艺腔室的上盖密封连接，输气通道的进气口与混气腔连通，输气通道的出气口与工艺腔室连通；混气通道的多个进气口形成于进气块组件的外表面上，混气通道的出气口与混气腔连通；多个连接组件均设置于进气块组件上，并且多个连接组件与混气通道的多个进气口一一对应连通，分别用于与多个工艺气体供给源连接，以选择性向混气通道内通入或停止通入工艺气体。本申请实施例能够防止反应气体腐蚀而形成污染物，从而提高晶圆良率。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 及其 装置 | ||
【主权项】：
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