[发明专利]等离子体处理装置及其内壁组件

摘要

一种等离子体处理装置及其内壁组件，等离子体处理装置包含反应腔、设置在反应腔内侧壁处的内壁组件，设置在反应腔内的等离子体约束环，以及设置在反应腔底部的排气装置。内壁组件包含围成一个等离子体环境处理空间的筒状部，所述筒状部的内侧壁设有若干个弧形沟槽，所述弧形沟槽由筒状部的内侧壁的上方向下延伸，等离子体约束环具有多个斜向下的排气通道。本发明使从内壁组件的内侧壁和等离子体约束环排出的气流形成涡旋结构，所述气流中的微小颗粒相互碰撞团聚成大颗粒污染物从反应腔中排出，防止颗粒污染物累积在基片表面和基片周围的零件上，保持了刻蚀环境的洁净。