[发明专利]用于负性光刻胶的聚酰亚胺树脂及包含其的负性光刻胶有效
| 申请号： | 202110884547.2 | 申请日： | 2021-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN113736082B | 公开（公告）日： | 2023-08-15 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 上海极紫科技有限公司 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10;G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海互顺专利代理事务所(普通合伙) 31332 | 代理人： | 韦志刚 |
| 地址： | 201805 上海市嘉定*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一种新型聚酰亚胺，其通过在惰性气体保护下，在催化剂、除水剂以及溶剂的存在下，使含咪唑基二胺、非含咪唑基二胺与二酐反应而得到。本申请还提供了由该新型聚酰亚胺制备得到的负性光刻胶。该负性光刻胶具备良好的灵敏度和分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 聚酰亚胺 树脂 包含 | ||
【主权项】：
暂无信息
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