[发明专利]一种新型三维中空形光场生成方法与装置在审

专利信息
申请号: 202110886687.3 申请日: 2021-08-03
公开(公告)号: CN113703170A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 朱大钊;丁晨良;匡翠方;徐良;李海峰;刘旭 申请(专利权)人: 之江实验室;浙江大学
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G02B27/28
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 孙孟辉
地址: 310023 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置,属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至,在转化成圆偏光,两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光,聚焦形成新型三维中空光场。该装置,包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM,第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF,并且利用SLM的偏振选择特性,可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化,采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
搜索关键词: 一种 新型 三维 中空 形光场 生成 方法 装置
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