[发明专利]一种金属微细结构的电化学高精度抛光方法有效

专利信息
申请号: 202110891681.5 申请日: 2021-08-04
公开(公告)号: CN113584568B 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 周平;张超;闫英;董晋彤;郭东明 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C25F3/16 分类号: C25F3/16;C25F3/22;C25F7/00
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 鲁保良;李洪福
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种金属微细结构的电化学高精度抛光方法,包括以下步骤:制备包裹有金属工件待抛光结构面的固体电解质;对金属工件进行抛光电解;将带有微细结构的金属工件从固体电解质中取出。本发明利用了固体电解质在一定条件下可以转变为液态或者通过溶液固化的方式进行制备的性质可进行微细结构的自适应填充以及抛光电解液的三维结构形状约束,这一重要转变是实现金属微细结构高精度抛光的关键,因为电解液的形状受到约束,金属材料的去除只会发生在金属和固体电解质的界面,随着加工的进行,发生金属表面与固体电解质的分离,金属的电化学腐蚀随即停止,金属微细结构三维结构形状得以良好保持,实现了高精度抛光,还可去除一定的波纹度特征。
搜索关键词: 一种 金属 微细 结构 电化学 高精度 抛光 方法
【主权项】:
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