[发明专利]蒸发式PECVD镀膜装置

摘要

本发明公开了一种蒸发式PECVD镀膜装置，其中蒸发式PECVD镀膜装置包括：衬底、衬底加热单元、蒸发源、加热保温单元、气体进口单元、等离子体辉光区，其中，衬底，用于沉积镀膜样品；衬底加热单元，设置于衬底的底部，用于对衬底进行加热；蒸发源，设置于衬底一侧，蒸发源内部放置有金属盐，对金属盐进行热蒸发，生成金属盐气体；加热保温单元，设置于衬底上方，用于对金属盐气体进行加热并保温；气体进口单元，与加热保温单元相连通，用于通入反应气体及惰性气体；等离子体辉光区，形成于衬底和加热保温单元之间，用于产生等离子态的自由基团和活性原子。