[发明专利]一种MOCVD系统反应腔清理装置在审
| 申请号： | 202110908146.6 | 申请日： | 2021-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN113584581A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 胡国东;孔丽英;翟小林 | 申请（专利权）人： | 苏州耘林芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;C30B25/14;C30B25/10;C23C16/44;B01D46/00;B01D46/24;B01D46/52 |
| 代理公司： | 苏州金项专利代理事务所(普通合伙) 32456 | 代理人： | 金星 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市张家*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种MOCVD系统反应腔清理装置，包括自带加热装置的反应腔，反应腔上设置有氯气进气口和清扫进气口，氯气进气口与氯气储存瓶联通，清扫进气口与吹扫系统连通，反应腔上还设置有出气口，该出气口连接有过滤器，过滤器包括箱体，箱体上设置有分隔板，分隔板将箱体分隔成为进气腔室和出气腔室，分隔板上设置有连通孔，分隔板上位于进气腔室内固定有滤芯组件，出气腔室上设置有排气口且内部固定有抽气风机，滤芯组件的内腔与连通孔相互连通，所述进气腔室上设置有补气口，该补气口与补气冷却系统相互连通。该清理装置能够对反应腔进行在线清理，从而减少停机次数，提高生产效率，保证产品的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mocvd 系统 反应 清理 装置 | ||
【主权项】：
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