[发明专利]量测图像与设计之间的模拟辅助的对准在审
| 申请号： | 202110926110.0 | 申请日： | 2017-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN113608416A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 王德胜 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法包括：使用设计布局的特性和图案化过程的特性来模拟图像或图像的特性；确定所述图像或图像的特性与所述设计布局或设计布局的特性之间的偏差；基于所述偏差使从经图案化的衬底获得的量测图像与所述设计布局对准，其中所述经图案化的衬底包括使用图案化过程由所述设计布局产生的图案；和根据与所述设计布局对准的所述量测图像确定经图案化的衬底的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 图像 设计 之间 模拟 辅助 对准 | ||
【主权项】：
暂无信息
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