[发明专利]一种硅环表面高精倾斜度的加工设备及其加工方法在审

专利信息
申请号: 202110926138.4 申请日: 2021-08-12
公开(公告)号: CN113370025A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 韩颖超;裴翔鹰;李长苏 申请(专利权)人: 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
主分类号: B24B9/06 分类号: B24B9/06;B24B41/06;B24B47/12;B24B55/06;B24B47/06
代理公司: 杭州信与义专利代理有限公司 33450 代理人: 马育妙
地址: 310053 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及半导体器件加工技术领域,主要涉及硅材料、特别是硅环的加工设备和方法,具体涉及一种硅环表面高精倾斜度的加工设备及其加工方法,该加工设备通过第一打磨电机实现硅环转动,通过第二打磨电机实现打磨轴转动,通过顶升汽缸控制各连接臂的位置,进而实现对硅环的内圈或者外圈夹持,通过移动电机控制打磨轴的横向移动,通过升降电机控制打磨轴的竖向移动,从而实现对打磨轴的精准控制,通过调节气缸带动安装筒倾斜,从而控制硅环倾斜,使得硅环与打磨轴倾斜接触,且角度可调节来适应硅环表面不同倾斜度的高精度加工。
搜索关键词: 一种 表面 倾斜度 加工 设备 及其 方法
【主权项】:
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