[发明专利]坩埚及分子束外延系统有效
| 申请号： | 202110938739.7 | 申请日： | 2021-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN113774477B | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | 高达;王丹;李震;王丛;王经纬;刘铭 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/48 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 罗丹 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种坩埚及分子束外延系统。用于提升分子束外延系统束流均匀性的坩埚包括：坩埚本体，用于盛放原料，坩埚本体为一端敞开、另一端封闭的中空柱体；支撑结构，设于坩埚本体的敞开端，支撑结构用于将坩埚本体的敞开端的空间分割为多个通道。本发明通过在坩埚本体的敞开端设置支撑结构，以将敞开端口的空间分割为多个通道，没有通道的部分可以阻挡部分束流直接蒸发至外延表面，使束流以更复杂的方式经多次反射蒸发至外延表面，能够大大缓解分子束外延束流均匀性受原料形状、原料使用情况的影响，而且通过调节通道的面积占比可以影响最大束流强度，不仅能够提升分子束外延系统束流均匀性，而且还能满足分子束外延工艺对束流强度的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 分子 外延 系统 | ||
【主权项】：
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