[发明专利]位移测量系统及光刻设备在审
| 申请号： | 202110940333.2 | 申请日： | 2021-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN113804112A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 高立冬;焦健;袁鹏;高嘉铭;潘金明 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 | 代理人： | 张阳 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种位移测量系统和光刻设备，涉及光栅测量技术领域，包括光栅安装板以及沿第一方向依次设置在光栅安装板上的曝光位光栅和预处理位光栅，曝光位光栅和预处理位光栅分别包括一回字型光栅；还包括工件台以及间隔设置在工件台表面的探测机构，工件台与光栅安装板沿第二方向间隔设置，探测机构与曝光位光栅和预处理位光栅配合，用于提供位移测量系统的测量基准；第一方向与第二方向垂直，曝光位光栅和预处理位光栅分别包括一回字型光栅，当工件台沿第一方向由预处理位向曝光位换台操作时，探测机构仅需要经过曝光位光栅和预处理位光栅之间的一个狭缝，切换时通过相对简单的解算过程即可完成测量，简化了平面光栅测量系统边缘切换。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 测量 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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