[发明专利]离子注入装置及微粒检测方法在审

专利信息
申请号: 202110941446.4 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN114256044A 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 二宫亚纪;八木田贵典;森田刚夫;广濑沙由美 申请(专利权)人: 住友重机械离子科技株式会社
主分类号: H01J37/244 分类号: H01J37/244;H01J37/317
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种离子注入装置及微粒检测方法,提高与离子束一起输送的微粒的检测精度。离子注入装置(10)具备:射束线装置(14),输送离子束;注入处理室(16),进行向晶圆(W)照射离子束的注入处理;照明装置(64),在射束线装置(14)内及注入处理室(16)内的至少一者中,向与离子束的输送方向交叉的方向照射照明光(L);摄像装置(66),对照明光(L)通过的空间进行拍摄而生成摄像图像;及控制装置(60),根据摄像图像检测使照明光(L)散射的微粒。
搜索关键词: 离子 注入 装置 微粒 检测 方法
【主权项】:
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