[发明专利]一种低含氧高纯度聚碳硅烷的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110958994.8 申请日: 2021-08-20
公开(公告)号: CN113461951B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 姚晓吉;李思维;汤明;黄金秋;涂惠彬 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: C08G77/60 分类号: C08G77/60
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 张素斌
地址: 361005 福建*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种低含氧高纯度聚碳硅烷的制备方法,包括以下步骤:用有机溶剂熔融碱金属,滴加二甲基二氯硅烷生成聚二甲基硅烷;用无水醇反应剩余反应物,过滤除去溶剂;清洗碱金属氯化物和氢氧化物,过滤得到粗聚二甲基硅烷;抽真空除去水分和硅氧烷,得到精聚二甲基硅烷;常压高温裂解聚二甲基硅烷收集馏分;馏分常压高温合成聚碳硅烷。本发明对聚二甲基硅烷抽真空除去水分和硅氧烷,降低聚二甲基硅烷的含氧量;对聚二甲基硅烷在高温下裂解收集馏分合成,降低聚碳硅烷的支化度、碱金属和游离态碳含量的含量,保证聚碳硅烷的高纯度。制备的聚碳硅烷数均分子量600~1500,氧含量0.05wt%~0.6wt%,碱金属含量低于25ppm。
搜索关键词: 一种 低含氧高 纯度 硅烷 制备 方法
【主权项】:
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