[发明专利]一种软X射线滤光片及其制备方法和用途在审

专利信息
申请号: 202110972075.6 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN113689968A 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 孟建伟;翁祖谦 申请(专利权)人: 上海科技大学
主分类号: G21K1/10 分类号: G21K1/10;C23C14/16;C23C14/30
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 严晨;许亦琳
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及X射线探测应用领域,特别是涉及一种软X射线滤光片及其制备方法和用途。本发明所提供的软X射线滤光片,包括石墨烯支撑层,所述石墨烯支撑层表面涂覆有铝膜。本申请所提供的软X射线滤光片采用了石墨烯作为铝膜的支撑结构,使得能量在277eV附近的光子,其透过率可达到90%以上,克服了现有滤光片对该能量范围透过率底的问题,而对于能量范围在400‑1000eV的光子,其最低透过率更是达到95%以上,尤其是能量大于1000eV的光子,几乎完全透过。
搜索关键词: 一种 射线 滤光 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
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