[发明专利]一种中性铜蚀刻液及其制备方法在审
申请号: | 202110973776.1 | 申请日: | 2021-08-24 |
公开(公告)号: | CN113667978A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 刘岩峰;陈继航 | 申请(专利权)人: | 青岛爱大生环保科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/14 | 分类号: | C23F1/14;C23F1/44 |
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地址: | 266000 山东省青岛*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种中性铜蚀刻液及其制备方法,属于湿膜蚀刻电子化学品领域,所述中性蚀刻液的pH值为6‑8,以重量计由下述组分配制而成:醋酸3‑10%、铜盐1‑5%、络合剂1‑10%、缓蚀剂1‑6%、pH值调节剂5‑15%、表面活性剂0.1‑5%及余量去离子水。本发明的中性铜蚀刻液能够对铜或铜合金进行选择性的均匀蚀刻,在精细部位没有残渣,并且能不腐蚀基板上的电子部件、各种层叠膜等。 | ||
搜索关键词: | 一种 中性 蚀刻 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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