[发明专利]一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及其中间体有效
| 申请号： | 202110979288.1 | 申请日： | 2021-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN113698329B | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 王溯;方书农;徐森;林逸鸣 | 申请（专利权）人： | 上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C07C381/12 | 分类号： | C07C381/12;C07C309/12;C07C227/18;C07C229/50;C07C303/32;C07C67/08;C07C69/753;C07C229/46;C07C69/608;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及其中间体。本发明的光产酸剂如式I所示。含有本发明的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。 |
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| 搜索关键词： | 一种 193 nm 浸没 光刻 用光 产酸剂 及其 中间体 | ||
【主权项】：
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