[发明专利]一种浸没式ArF光刻用光产酸剂及光刻胶组合物有效
| 申请号： | 202110979405.4 | 申请日： | 2021-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN113820918B | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 王溯;方书农;徐森 | 申请（专利权）人： | 上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;马续红 |
| 地址： | 201616 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种浸没式ArF光刻用光产酸剂及光刻胶组合物。本发明的光产酸剂如式I所示。含有本发明的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。 |
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| 搜索关键词： | 一种 浸没 arf 光刻 用光 产酸剂 组合 | ||
【主权项】：
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