[发明专利]一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂在审

专利信息
申请号: 202110985304.8 申请日: 2021-08-26
公开(公告)号: CN113564613A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 王霞 申请(专利权)人: 王霞
主分类号: C23G1/24 分类号: C23G1/24;B08B7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 038500 山西省朔*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明涉及工业清洗剂技术领域,且公开了一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂,包括以下质量分数配比的原料:由纳米二氧化钛和聚乙炔组成的清洗催化剂3~8%,辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5%,脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5%,N,N'‑双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3%,乙二醇单丁醚(EB)5~12%,余量为去离子水。本发明的清洗催化剂在光线照射时,能够使污渍的分子接受光生电子‑空穴对发生降解,并溶解在本发明的清洗剂中,从而对于激光全息模压版上大面积的污渍达到去污力99%以上的技术效果。
搜索关键词: 一种 用于 清洗 激光 全息 模压 洗剂
【主权项】:
暂无信息
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