[发明专利]一种双激光抛光系统及复合激光抛光方法在审
| 申请号： | 202110989409.0 | 申请日： | 2021-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN113732510A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 黎万烙;龚华溢;古顺;吴金辉;杨碧新;郑家仪 | 申请（专利权）人： | 深圳信息职业技术学院 |
| 主分类号： | B23K26/352 | 分类号： | B23K26/352;B23K26/70 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 郭雨桐 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及表面处理技术设备领域，尤其涉及一种双激光抛光系统及复合激光抛光方法。双激光抛光系统包括：机架、转动设于机架上的旋转工作台和光路结构，旋转工作台用于供工件放置；光路结构包括：发出第一光束的第一激光器、发出第二光束的第二激光器、连接机架的加工头以及光路切换机构；加工头位于工件上方且配置为抛光工件，光路切换机构具有第一位置状态和第二位置状态；其中，光路切换机构处于第一位置状态时，光路切换机构将第一光束入射加工头；而光路切换机构处于第二位置状态时，光路切换机构将第二光束入射加工头，通过复合扫描实现高效的激光抛光。本发明可以有效降低工件的表面粗糙度以及提高抛光的效率的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 抛光 系统 复合 方法 | ||
【主权项】：
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