[发明专利]排气管装置在审
申请号: | 202110999826.3 | 申请日: | 2021-08-23 |
公开(公告)号: | CN114107951A | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 松叶博;大石晃宏;福水裕之;栗原一彰 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/505 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 张鲁滨;吴鹏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及排气管装置。根据一个实施例的排气管装置包括:电介质管;射频电极;接地电极;以及等离子体产生回路。射频电极设置在电介质管的外周侧,射频电压被施加到该射频电极。接地电极在电介质管的端部侧设置成使得其与射频电极的距离在电介质管的内部侧比外部侧小,接地电势被施加到该接地电极。等离子体产生回路在电介质管的内侧产生等离子体。排气管装置用作设置在成膜室与用于对成膜室的内部进行排气的真空泵之间的排气管的一部分。 | ||
搜索关键词: | 排气管 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铠侠股份有限公司,未经铠侠股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110999826.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的