[发明专利]基板制备方法及膜片结构在审

专利信息
申请号: 202111008621.0 申请日: 2021-08-31
公开(公告)号: CN113764564A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 吴万春 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62;H01L27/15;H01L27/32;G02F1/1362
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 官建红
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请实施例公开了一种基板制备方法及膜片结构,基板制备方法包括:提供基板;在基板的侧边面及与侧边面邻接的至少部分侧面上覆盖膜片结构,膜片结构包括相互连接的第一膜片和第二膜片,第一膜片覆盖侧边面,第二膜片覆盖至少部分侧面,膜片结构上开设有多条狭缝,多条狭缝与第一膜片和第二膜片的交界线交叉设置,多条狭缝沿交界线的长度方向依次分布;在膜片结构背离基板一侧的表面形成导电层;将膜片结构从基板上剥离,以在基板与狭缝对应的位置形成导线。本申请实施例中通过在具有狭缝的膜片结构上形成导电层,然后将膜片结构从基板上剥离,即可在基板上形成导线,操作比较简单,作业时间较短,能够提高基板的制备效率。
搜索关键词: 制备 方法 膜片 结构
【主权项】:
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