[发明专利]基板制备方法及膜片结构在审
申请号: | 202111008621.0 | 申请日: | 2021-08-31 |
公开(公告)号: | CN113764564A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 吴万春 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/62 | 分类号: | H01L33/62;H01L27/15;H01L27/32;G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 官建红 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请实施例公开了一种基板制备方法及膜片结构,基板制备方法包括:提供基板;在基板的侧边面及与侧边面邻接的至少部分侧面上覆盖膜片结构,膜片结构包括相互连接的第一膜片和第二膜片,第一膜片覆盖侧边面,第二膜片覆盖至少部分侧面,膜片结构上开设有多条狭缝,多条狭缝与第一膜片和第二膜片的交界线交叉设置,多条狭缝沿交界线的长度方向依次分布;在膜片结构背离基板一侧的表面形成导电层;将膜片结构从基板上剥离,以在基板与狭缝对应的位置形成导线。本申请实施例中通过在具有狭缝的膜片结构上形成导电层,然后将膜片结构从基板上剥离,即可在基板上形成导线,操作比较简单,作业时间较短,能够提高基板的制备效率。 | ||
搜索关键词: | 制备 方法 膜片 结构 | ||
【主权项】:
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