[发明专利]一种砷化镓芯片高砷高盐废水和含砷研磨废水综合处理方法有效
| 申请号： | 202111010917.6 | 申请日： | 2021-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN113716775B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 杨红梅;孙冬;向迎洪;杨汉军;黄文凤;肖德龙;刘世林;黄莉;蒲柳;杨永见;张伟才 | 申请（专利权）人： | 四川恒泰环境技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C02F9/10 | 分类号： | C02F9/10;C02F1/04;C02F1/52;C02F1/56;C02F1/66;C02F1/72;C02F1/78;C02F101/10;C02F101/14;C02F101/16 |
| 代理公司： | 成都为知盾专利代理事务所(特殊普通合伙) 51267 | 代理人： | 李汉强 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种砷化镓芯片高砷高盐废水和含砷研磨废水综合处理方法，目的在于解决砷化镓芯片的高砷高盐和含砷研磨废水的处理问题。该方法包括如下步骤：(1)高砷高盐废水结晶脱盐及单效蒸发预处理；(2)含砷研磨废水沉淀预处理；(3)综合废水除砷除磷除氟沉淀处理；(4)芬顿臭氧二级氧化及沉淀处理；(5)氨氮去除；(6)树脂吸附(7)污泥处理。本发明工艺合理，能够解决高砷高盐砷化镓芯片废水结晶堵塞、难沉淀的问题，消除高盐和研磨液超细悬浮物对树脂吸附的不利影响，保证处理后的废水达标排放，具有显著的经济价值、环境价值，对于促进半导体产生的发展，具有现实的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 砷化镓 芯片 高砷高盐 废水 研磨 综合 处理 方法 | ||
【主权项】：
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