[发明专利]具备光响应性金属有机骨架填充混合基质膜的制备与应用在审

专利信息
申请号: 202111017684.2 申请日: 2021-09-01
公开(公告)号: CN113856494A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 辛清萍;张玉忠;邵卫;赵宇航;曾一楠;郭建平;其他发明人请求不公开姓名 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: B01D71/64 分类号: B01D71/64;B01D67/00;B01D53/22;B01D53/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300387 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了光响应性金属有机骨架混合基质膜,属于膜分离技术领域。所述光响应性金属有机骨架(CE‑Azo‑Uio‑66)与高分子通过物理共混制备混合基质膜,引入的CE‑Azo‑Uio‑66为多孔材料,其水稳定性较好,耐酸耐碱,满足膜脱硫的条件。CE‑Azo‑Uio‑66具有光活性的偶氮基团和冠醚基团,偶氮基团可发生光异构化,使CE‑Azo‑Uio‑66中的偶氮基团发生顺‑反异构化且‑N=N‑基团作为碱性位点可促进SO2传递;冠醚基团为SO2提供更多的传递位点,可提升混合基质膜的选择性。光响应性金属有机骨架混合基质膜在光照条件不同的情况下进行吸附‑脱附过程,将其引入到高分子膜中,可促进SO2的传递,提高混合基质膜的选择性,从而提高SO2分离效率。
搜索关键词: 具备 响应 金属 有机 骨架 填充 混合 基质 制备 应用
【主权项】:
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