[发明专利]用于等离子体设备的基座组件在审
| 申请号： | 202111054274.5 | 申请日： | 2021-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN114182225A | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | S.金;田中宏治 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/54;C23C14/56;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46;C23C16/50;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于反应器系统的基座组件可以提供各种等离子体控制益处。根据各种实施例，基座组件包括主体、加热器元件、第一电极和第二电极。主体可以具有顶表面、侧表面和底表面，其中顶表面是衬底支撑表面。加热器元件可以嵌入主体内。第一和第二电极也可以嵌入基座组件的主体内，第一电极设置在加热器元件和主体的顶表面之间。第二电极通常可以靠近侧表面和底表面中的至少一个设置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 设备 基座 组件 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASMIP私人控股有限公司，未经ASMIP私人控股有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111054274.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：结构设计中的柱放置的可定制强化学习
- 下一篇：液晶组合物及相位控制用元件
- 同类专利
- 专利分类
