[发明专利]用于制造微机电结构的方法和微机电结构在审
| 申请号： | 202111055409.X | 申请日： | 2021-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN114229789A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | J·赖因穆特;R·博森德费尔 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 郭毅 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出用于制造微机电结构的方法，具有以下步骤：形成具有槽口的第一和第二功能层、第三功能层及三个布置其间的绝缘层，第三功能层的结构化横向区域限定可运动结构，绝缘层及第一和第二功能层分别具有布置在第三功能层结构化横向区域下方且相应于结构化横向区域垂直投影的横向区域；蚀刻绝缘层，完全去除第三绝缘层横向区域中的第三绝缘层并使可运动结构暴露，第一功能层的布置在第一功能层横向区域中的所有槽口通过窄的沟槽形成，其宽度小于第一与第三功能层之间的垂直距离的两倍，第一功能层如此形成，使得其在横向区域中具有通过沟槽与第一功能层的剩余部分分开的至少一个电绝缘部段。此外提出具有衬底及第一、第二和第三功能层的微机电结构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 微机 结构 方法 | ||
【主权项】：
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