[发明专利]低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法在审
申请号: | 202111061132.1 | 申请日: | 2021-09-10 |
公开(公告)号: | CN113716952A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 叶雯;裴广强;王建斌;张鹏;尹阿利 | 申请(专利权)人: | 西安神电电器有限公司 |
主分类号: | C04B35/453 | 分类号: | C04B35/453;C04B35/622;H01C7/112;H01C17/30 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 汪海艳 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: |
本发明属于电阻电气元件技术领域,涉及一种低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法,能够改善大电流冲击后低梯度电阻片的稳定性。电阻片材料包括如下原料:ZnO:80.0~93.0wt.%,Bi |
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搜索关键词: | 梯度 通流 冲击 稳定性 电阻 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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