[发明专利]一种单晶金刚石低指数晶面的抛光方法在审
| 申请号： | 202111066367.X | 申请日： | 2021-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN113814799A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 佘丁顺;关芮;高武龙;宋慧慧;岳文;王青青;康嘉杰;孟德忠;任小勇;朱丽娜;唐云龙;黄西娜 | 申请（专利权）人： | 中国地质大学（北京）;中国地质大学（北京）郑州研究院 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B37/11;B24B37/27;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京优赛深闻知识产权代理有限公司 16040 | 代理人： | 窦艳鹏 |
| 地址： | 100000*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种单晶金刚石低指数晶面的抛光方法，本发明涉及单晶金刚石低指数晶面的抛光领域。本发明要解决现有单一抛光工艺只对单一晶面进行抛光的技术问题。方法：采用“三步法”抛光工艺，综合了各种抛光技术的优点。解决了现有单一抛光工艺且只能对单一晶面进行抛光的缺点，提高了单晶金刚石的抛光效率及精度，同时也降低了对环境的污染。本发明用于单晶金刚石低指数晶面的抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金刚石 指数 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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