[发明专利]一种局部电镀填孔的HDI板制造方法及HDI板在审

专利信息
申请号: 202111069486.0 申请日: 2021-09-13
公开(公告)号: CN113891578A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 向华;余小丰;程胜伟;党哓坤 申请(专利权)人: 惠州中京电子科技有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K3/00;H05K1/11
代理公司: 惠州市超越知识产权代理事务所(普通合伙) 44349 代理人: 陈文福
地址: 516029 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种局部电镀填孔的HDI板制造方法,该方法包括压合铜箔:将铜箔压合在基板上,获得HDI板主体;钻孔:在压合后的HDI板主体上钻孔;一次干膜:在HDI板主体压设绝缘干膜,并在盲孔处镂空;电镀:对需要电镀的孔位进行选择性电镀;一次退膜:将一次干膜中的绝缘干膜退掉;二次干膜:在HDI板主体上压设第二张绝缘干膜,并使需要刻蚀的图形位置露出;蚀刻:将露出部位的铜蚀刻掉,露出基材;二次退膜:将蚀刻完成的HDI板主体上的绝缘干膜去掉,得到所需的HDI板。该方法通过两次干膜将HDI板的盲孔镀铜和表面镀铜分开,降低盲孔镀铜对面铜的影响,提高了面铜厚度的均匀度。本发明还提供一种采用上述的制造方法制成的HDI板。
搜索关键词: 一种 局部 电镀 hdi 制造 方法
【主权项】:
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