[发明专利]具有收容环境检测的基板收容装置在审
| 申请号： | 202111073036.9 | 申请日： | 2021-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN114326294A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 邱铭乾;庄家和;薛新民;林韵孜 | 申请（专利权）人： | 家登精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66;G01D21/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 周永君;董骁毅 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭露一种具有收容环境检测的基板收容装置，具有可拆卸地连接于一外盒的一检测装置，所述检测装置包含一感测部，其具有一感测端、一腔体及一感测器，所述感测部可拆卸地连接于所述外盒，使所述感测端暴露于所述外盒内侧的一容置空间，所述腔体延伸于所述外盒的一外侧和所述容置空间之间并容置所述感测器，所述腔体经由所述感测端通信连接所述外盒的容置空间，藉此让所述感测器读取关于所述容置空间的信息。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 收容 环境 检测 装置 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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