[发明专利]复合烧结体、半导体制造装置构件及复合烧结体的制造方法有效

专利信息
申请号: 202111081223.1 申请日: 2021-09-15
公开(公告)号: CN114180943B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 阿闭恭平;宫西启太;永井明日美;山口浩文 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: C04B35/10 分类号: C04B35/10;C04B35/48;C04B35/622;C04B35/645
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 陈彦;郭玫
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种复合烧结体、半导体制造装置构件及复合烧结体的制造方法,能够抑制电极的电阻率增大,并且减小电极与基材的热膨胀系数之差。复合烧结体(20)具备以陶瓷为主材料的基材和配置于该基材的内部或表面的电极(23)。电极(23)包含W和ZrO2。由此,能够减小电极(23)与基材的热膨胀系数之差。其结果是,能够抑制由电极(23)与基材的热膨胀系数之差引起的基材的裂纹、电极(23)的剥离。另外,在复合烧结体(20)中,也能够抑制电极(23)的电阻率增大。其结果是,能够高精度地控制电极(23)的发热量。
搜索关键词: 复合 烧结 半导体 制造 装置 构件 方法
【主权项】:
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