[发明专利]薄膜沉积设备及其镀膜方法、真空镀膜机在审
| 申请号： | 202111081911.8 | 申请日： | 2021-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN113774335A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 刘伟基;冀鸣;易洪波;赵刚 | 申请（专利权）人： | 佛山市博顿光电科技有限公司;中山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 广州市律帆知识产权代理事务所(普通合伙) 44614 | 代理人： | 余永文 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市南海区狮山镇信息大道南3*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种薄膜沉积设备及其镀膜方法、真空镀膜机，所述薄膜沉积设备包括：设于真空室内的电子束热蒸发系统和磁控溅射系统；其中，电子束热蒸发系统设于工件盘的下部，磁控溅射系统设于工件盘的上部；工件盘用于放置被镀膜的基片；电子束热蒸发系统用于通过热蒸发方式对基片的下表面进行薄膜沉积；磁控溅射系统用于通过溅射方式对基片的上表面进行薄膜沉积；在镀膜过程中，工件盘转动基片，电子束热蒸发系统在第一真空状态下对基片的下表面进行薄膜沉积，磁控溅射系统在第二真空状态下对基片的上表面进行薄膜沉积；该技术方案，在一个工序中分别完成薄膜沉积主要工序和增透薄膜工艺组合流程，从而简化了薄膜沉积工序，提高了薄膜沉积效率。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 设备 及其 镀膜 方法 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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