[发明专利]一种外延片的钝化层制备方法、发光芯片及显示装置

摘要

本发明涉及一种外延片的钝化层制备方法、发光芯片及显示装置，该方法包括：将外延片主体置于反应室中；通过原子层沉积工艺在所述外延片主体上形成钝化层，所述钝化层至少将所述外延片主体的正、侧面覆盖；通过采用原子层沉积工艺制得的外延片的钝化层，具有优异的台阶覆盖特性，对外延片侧壁的包覆效果佳，能够有效减少器件的漏电现象，另一方面，采用原子层沉积工艺制得的钝化层非常致密，具有很好的物理钝化性能，可有效减少载流子的非辐射复合；同时能更好的隔绝环境中的水、氧，器件可靠性测试性能会得到改善，增加器件的使用寿命。