[发明专利]一种利用单通道PDMS诱导模板制备微流控芯片上双通道结构的方法有效

专利信息
申请号: 202111090289.7 申请日: 2021-09-17
公开(公告)号: CN113649097B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 张登英;董妍利;刘圣明;唐一平;邢文强;赵风周;张立春 申请(专利权)人: 鲁东大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 264025 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种利用单通道PDMS诱导模板制备微流控芯片上双通道结构的方法,它打破了使用现有的单通道模板仅能制备单通道结构的规律,给出了一种利用单通道PDMS诱导模板制备微流控芯片上双通道结构的方法。本发明的方法为:首先利用光刻技术制备出所需的单通道母版结构,再使用PDMS材料制备出单通道PDMS诱导模板,然后将诱导模板与基片紧密粘附在一起形成单通道空腔,在空腔一侧滴入S1813光刻胶,静置2个小时后对其加热,光刻胶发生回流,同时在单通道PDMS诱导模板的诱导下形成双通道结构,冷却固化并揭掉诱导模板后,就在基片表面上制得了双通道结构。本发明适用于微流控芯片、生物医药等应用领域。
搜索关键词: 一种 利用 通道 pdms 诱导 模板 制备 微流控 芯片 双通道 结构 方法
【主权项】:
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