[发明专利]一种平场校正参数的获取方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111097720.0 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN113808046A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 郭慧;张见;戚涛;姚毅;杨艺 申请(专利权)人: 凌云光技术股份有限公司;北京凌云光子技术有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T7/80
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 100094 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供一种平场校正参数的获取方法及装置,方法包括获取待校正图像的暗场图像;计算并存储暗场行均值向量和暗场列均值向量;调用存储的暗场行均值向量,计算暗场行均值矩阵;调用存储的暗场列均值向量,计算暗场列均值矩阵;将暗场行均值矩阵和暗场列均值矩阵相加,得到每一个暗场像素点的FPN参数;获取待校正图像的亮场图像中每一个亮场像素点的PRNU参数;将FPN参数和PRNU参数输出为待校正图像中每一个待校正像素点的平场校正参数。本申请仅需要存储待校正图像的行均值向量和列均值向量,减小了平场校正时需要存储的参数数据量,并且本申请可得到与对待校正图像中逐个像素点进行平场校正参数计算后相同数据量的平场校正参数。
搜索关键词: 一种 校正 参数 获取 方法 装置
【主权项】:
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