[发明专利]一种多光束扫描式激光直写装置及其刻写方法在审
| 申请号： | 202111104342.4 | 申请日： | 2021-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN113867105A | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 郑金轮;魏劲松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种多光束扫描式激光直写装置及其刻写方法。该激光直写光刻装置中的光学扫描部分能够扫描出N束互相平行且相邻光束间距相同的刻写光束。实施刻写时，将待刻写样品固定于该装置中的二轴工件台上，二轴工件台中的刻写轴运行在特定的速度时，配合该激光直写光刻装置的扫描光束后就能刻写出等周期光栅状轨迹。本专利探索了激光直写光刻装置中刻写光束数量N、光束扫描速度和刻写轴速度三个变量与光栅状轨迹的周期的关系，发明了一种能够扫描出N束互相平行且相邻光束间距相同的刻写光束的多光束扫描式激光直写光刻装置，同时提出了利用该装置刻写出等周期光栅轨迹的刻写方法。该方法相比传统多光束方法能有效降低对扫描透镜大口径的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光束 扫描 激光 装置 及其 刻写 方法 | ||
【主权项】：
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