[发明专利]制备QLED器件的方法、QLED器件及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111108832.1 申请日: 2021-09-22
公开(公告)号: CN113903874A 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 王好伟 申请(专利权)人: 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 吴婷
地址: 100176 北京市北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出了制备QLED器件的方法,QLED器件和显示装置,包括:提供基板,在基板一侧形成图案化层,在图案化层远离基板的一侧形成发光层,自发光层远离图案化层的一侧,对基板上的预设区域进行光照处理,令预设区域内的图案化层的溶解性发生改变,去除基板上非预设区域或预设区域内的图案化层和发光层,以获得QLED器件,其中,形成图案化层的材料为小分子交联材料或聚合物分解材料。由此,通过一种较为简便的方法制备高分辨率的QLED器件。
搜索关键词: 制备 qled 器件 方法 显示装置
【主权项】:
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