[发明专利]一种拼接曝光方法、装置及系统在审
| 申请号： | 202111114272.0 | 申请日： | 2021-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN113835308A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 上海度宁科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海大邦律师事务所 31252 | 代理人： | 陈丹枫 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区自*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种投影光刻方法、装置及系统。该方法包括：将硅片或基板设置为包含第1个至第N个曝光场的待曝光对象；光源通过照明系统形成照明光；曝光时，照明光通过掩模版的视场图案，经物镜系统将掩模视场图案投影至硅片或基板当前曝光场对应的曝光区域，在光刻胶材料上进行光刻，以形成曝光场图案；通过所述照明光将所述掩模版的视场图案轮换投影至曝光场对应的曝光区域，以曝光完成硅片或基板上所有第1至第N个曝光图案，N为大于等于1的自然数。本发明能够通过小视场物镜实现传统投影光刻机高分辨率、大尺寸掩模版的投影光刻需求，大大降低了现有技术中投影光刻机的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 拼接 曝光 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
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