[发明专利]球栅阵列的缺陷分析方法与设备在审
| 申请号： | 202111123454.4 | 申请日： | 2021-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN113836489A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 赵林;杨阳 | 申请（专利权）人： | 英特尔产品（成都）有限公司;英特尔公司 |
| 主分类号： | G06F17/18 | 分类号： | G06F17/18 |
| 代理公司： | 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 | 代理人： | 林锦辉;刘景峰 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供用于芯片上球栅阵列的分析方法，包括获取芯片上球栅阵列中的缺陷球栅的检测数据，所述检测数据描述了所述芯片中每个缺陷球栅的参考点物理位置以及物理覆盖范围，基于一预定的像素分辨率将所述参考点物理位置以及物理覆盖范围转译成像素表示的参考像素位置与像素覆盖范围，以及基于所述参考像素位置与像素覆盖范围，生成表征所述缺陷球栅的缺陷类型的指示。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 缺陷 分析 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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