[发明专利]一种抛光装置及其抛光方法有效
| 申请号： | 202111126156.0 | 申请日： | 2021-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN113681436B | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 冯铭;张泽林;张祥雷;陈芝向;李偲偲;周宏明 | 申请（专利权）人： | 温州大学 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B31/112;B24B31/14;B24B31/12;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 李胜强 |
| 地址： | 325035 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种抛光装置及其抛光方法，包括径向充磁的磁铁以及无磁性的载液板，所述载液板的一面靠近所述磁铁的轴向端面，所述载液板的另一面在所述磁铁的磁场作用下吸附有磁响应抛光垫，所述磁铁和所述载液板均能够转动，所述磁响应抛光垫包括吸附在所述载液板上的磁性颗粒以及由外部供给的磨粒；本发明在径向充磁的磁铁的一端设置载液板，利用磁铁的旋转磁场吸附磁响应抛光垫，从而利用旋转磁场形成一个可恢复形状的磁响应抛光垫，同时，可以由外部向磁响应抛光垫补充磨粒，在载液板转动的基础上，能够形成不间断的可恢复形状的抛光过程，能够有效贴合复杂的曲面实现高效抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
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