[发明专利]一种基于暗场显微成像原理的光学镜片表面疵病检测装置在审

专利信息
申请号: 202111136669.X 申请日: 2021-09-27
公开(公告)号: CN113686786A 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 于伟;马倩;洪学海;陈鑫 申请(专利权)人: 上饶市中科院云计算中心大数据研究院
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/88;G01N21/958
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 张勋
地址: 334000 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开一种基于暗场显微成像原理的光学镜片表面疵病检测装置,用于光学镜片表面疵病检测,包括起遮挡作用的机柜、设置在机柜内的可自动调节高度的反射光源模组和透射光源模组、用于采集光学镜片疵病图像的工业相机、用于控制前述两个光源模组的光源控制模组、用于支撑待检测镜片的镜片夹具、用于将镜片夹具传递至镜片检测工位的传送模组、用于总体控制及图案分析的总控模块;其实现镜片的透射检测及反射检测,检测更为全面,工业相机采集疵病图像分析结果一致性好、可靠性高,光源模组可自动调节高度、可实现光晕去除,提高检测准确度;产品整体自动化程度高,可靠性好,减少了人工参与,在工业应用中有效降低了检测成本并提高了检测效率。
搜索关键词: 一种 基于 暗场 显微 成像 原理 光学镜片 表面 检测 装置
【主权项】:
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