[发明专利]真空环境下的低温吸附与再生系统有效
| 申请号： | 202111137191.2 | 申请日： | 2021-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN113975928B | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;张鸣;文振武;成荣;刘相波;殷凤志 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B01D53/02 | 分类号： | B01D53/02 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李平;杨桦 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空环境下的低温吸附与再生系统，该系统包括主腔室、工件台、冷板、再生系统、真空系统和制冷系统；在所述主腔室内设置有所述工件台和所述冷板；所述再生系统设置在所述冷板外围，用于所述冷板的再生；所述真空系统布置在所述主腔室的顶部外侧，用于对所述主腔室抽真空；所述制冷系统布置在所述主腔室的侧面，用于对所述冷板进行低温控制。本发明利用低温表面对气体分子高吸附的特点和可收缩薄膜展开机构提供的封闭环境，实现真空环境下高效率的气体污染控制。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 环境 低温 吸附 再生 系统 | ||
【主权项】：
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